集成电路三维封装带凸点圆片划片工艺过程和评价要求GBT44796-2024.pdf

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关键词：: 集成电路三维封装带凸点圆片划片工艺过程和评价要求GBT44796-2024 集成电路三维封装带凸点圆片划片工艺过程评价要求 GBT44796 2024

资源简介：: 《集成电路三维封装带凸点圆片划片工艺过程和评价要求》讲解了12in及以下尺寸集成电路三维封装带凸点圆片划片工艺的一般要求、详细要求与评价标准。文件描述了划片工艺涉及的设备仪器应具备的技术参数，如切割速度、主轴转速及累计误差等关键指标，并对贴膜机、揭膜机及紫外解胶机等提出具体应用规范。同时明确材料方面需使用满足厚度及平整度要求的保护膜和划片膜，且划片膜需根据产品特性选择适宜类型并注意有效期限。在一般注意事项中，重点提及安全防范与防静电操作的具体措施。环境方面要求温度湿度达到特定范围且洁净度达到ISO6级标准，典型工艺流程涵盖工艺准备到最终标识转运等多个步骤，每一步均有明确技术要求与检查评估细则。

《集成电路三维封装带凸点圆片划片工艺过程和评价要求》适用于从事12in及以下尺寸集成电路三维封装制造相关领域的技术人员与企业单位。该文件尤其适用于需要对带凸点圆片进行精密划片工艺处理的企业或科研机构，可用于指导划片设备选购、工艺参数设定、材料选择、工艺环境配置及各工序的质量控制与评价工作，为行业规范操作提供了科学依据。

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集成电路三维封装 带凸点圆片划片工艺过程和评价要求GBT44796-2024.pdf