《真空镀膜基础知识》讲解了薄膜这种特殊物质形态的相关知识，涵盖其材料范围、存在形式以及近期发展。该内容描述了功能材料薄膜与复合薄膜的重大进步和应用背景。重点解析了几种不同的镀膜技术和薄膜产品在工业应用中的重要意义及地位，特别是强调了这些技术对于电子材料与元器件领域的价值。文中还详细列出了多种制备镀膜的具体方法如气相生成法（包含物理气相沉积法）、氧化法等，并特别介绍了与物理气相沉积密切相关的真空技术作为基础保障的作用，即确保适当的真空度对完成高质量镀膜是必不可少的条件。此外，《真空镀膜基础知识》还探讨了不同类型的真空蒸发镀膜方法，包括利用电阻、电子束、高频感应等加热蒸发源的不同特点及其应用场合，深入分析了各自的结构原理、适用范围和技术难点等内容，全面展现了当前镀膜技术研究和发展概况。
《真空镀膜基础知识》适用于涉及先进制造领域尤其是精密光学元件制造、电子设备组件生产加工、表面改性处理等相关企业技术人员阅读，也适合作为科研院所从事镀膜技术研发工作人员的技术参考指南。对于需要了解新材料性能优化手段的研发机构或者高校院所，这部作品提供了必要的理论支撑与实践依据。此外，对真空技术和工艺流程感兴趣的一线操作人员也可以从中获取到关于各种镀膜制备方式的知识指导。
