高纯六氟化钨中杂质的检测DB13T6137-2025.pdf

《高纯六氟化钨中杂质的检测》讲解了针对电子工业中使用的高纯六氟化钨气体中所含杂质的测定方法。该文档详细阐述了检测的原理、适用试剂与材料、所需的仪器设备配置要求、样品技术指标、测定步骤及结果计算方法。重点涵盖的检测杂质类型包括氧+氩、氮气、一氧化碳、四氟化碳、二氧化碳、六氟化硫、四氟化硅等非金属气体以及氟化氢和多种金属元素的测定。检测采用气路切换装置与氦离子化检测器的气相色谱仪完成气体组分分离与含量分析，并依据红外光谱分析氟化氢特性吸收峰定量其浓度。文中明确了载气及标准气体纯度、仪器色谱柱参数、操作条件（如温度、流速和进样体积），并通过公式（峰面积比值计算）实现结果处理。

《高纯六氟化钨中杂质的检测》适用于电子工业领域特别是半导体材料和特种气体制造等相关行业中从事气体纯度检测、质量控制及生产管理的人员。本文件为使用与高纯六氟化钨生产企业及其配套气体检测实验室提供规范化的技术指导，同时也为监管机构和第三方检验检测机构开展气体产品抽检工作提供了科学依据和操作标准。由于对设备和检测技术要求较高，本标准对于气体生产、检测单位的实验室建设及操作流程标准化具有重要的应用价值。