
碳化硅单晶位错密度的测试方法GBT41765-2022.pdf
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- 关 键 词:
- 碳化硅 单晶位错 密度 测试 方法 GBT41765 2022
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《碳化硅单晶位错密度的测试方法GBT41765-2022》讲解了关于碳化硅单晶中位错缺陷的系统测量技术及其评价方式,规定了碳化硅单晶中位错线的测试范围、规范性引用文件以及术语定义等内容。此标准旨在建立一种统一而可靠的方法用于检测和量化影响碳化硅材料质量和性能的关键因素之一——位错密度。具体而言,该标准阐述了不同种类位错包括螺型位错、刃型位错等形态的识别依据,给出了详细的样品制备要求,从晶体的初始取样直到表面处理的每个步骤进行了描述,保证样本在测量过程中的稳定性和代表性。另外,针对位错观察的技术手段,文档指出了可以利用电子显微镜或者特殊光学器件进行高分辨率的成像记录,并明确了位错计数规则,即统计一定面积内各种类型位错的数量进而获得密度数值。对于误差估计及结果表述,也制定了严格的标准,通过设定可信度指标,指导使用者如何准确评估数据的精确性。
《碳化硅单晶位错密度的测试方法GBT41765-2022》适用于从事半导体研发、制造的相关企业和科研机构,为他们提供了必要的质量控制手段以满足高端应用领域对碳化硅基器件日益增长的需求。特别是那些涉及功率电子器件如新能源车辆充电桩、高效光伏逆变器以及其他高压高频应用场景的企业,这份标准文档将成为其产品品质保障的重要参考依据,确保相关从业者能够遵循同一套严格科学的检测流程来确定所使用或生产的碳化硅材料的真实质量状况。
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