电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法SJT10553-2021.pdf

《电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法SJT10553-2021》讲解了用于电子陶瓷领域的二氧化锆样品中多种杂质元素的定性和定量分析，该文件提供了一套基于发射光谱的系统检测流程。从实验设备选择如发射光谱仪的选择要求、校准方式，以及工作曲线制定等基础环节开始介绍，确保数据测量精确可靠。针对样品制备部分，描述了取样原则和加工程序，包括研磨粉碎达到规定细度后压制成片的具体工艺过程，并给出每步可能影响测试效果的关键因素说明。在具体测定步骤方面，《标题》涵盖了从仪器条件参数设定到对各类杂质元素激发光强采集，再至利用软件平台完成谱线识别匹配计算最终结果输出的操作细节。文档同时列出几种常见金属或非金属杂质的参考内控标准数值区间，这些指导数值可以帮助企业和科研机构建立内部质量控制指标。最后强调环境温度与湿度变化及背景干扰源等外界因素会对检测结果产生潜在偏差的影响，在不同应用场景下应如何针对性采取优化措施保障数据的有效性等内容。

《电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法SJT10553-2021》适用于电子陶瓷制造行业以及相关科研院所。特别是那些专注于开发高纯度二氧化锆原料并注重材料性能提升的企业单位尤为适用。这份文件可以成为一线实验室操作人员进行日常检验工作的工具书，为保证产品的质量和一致性提供了有力的技术支持。同时也服务于高校和研究院所的研究者们开展新型电子陶瓷材料的研发工作中，有助于确保原材料品质始终符合严格的工业规范和技术要求。