高纯度钨部件性能评价方法DB13T6141-2025.pdf

《高纯度钨部件性能评价方法》讲解了半导体制造中高纯度钨部件的化学成分与物理性能的检测方法。文件详细说明了化学成分评价采用辉光放电质谱法（GDMS）的测定原理，通过辉光放电离子源与质谱仪器结合，对钨样品中的痕量杂质元素进行检测。标准规定了试剂或材料的具体要求，如高纯度硝酸、氢氟酸以及一级纯水等，并强调样品应为形状规则、表面平整光滑的高纯钨样品。文件对仪器设备提出明确技术要求，如中分辨模式下的质量分辨率应高于3500，高分辨模式应高于9000。测定步骤涵盖了样品的预处理、仪器参数优化、背景监控以及具体测定流程。对于结果处理，文件明确了数据表示方法，要求根据含量范围保留相应有效数字，并参照国家标准进行数值修约和重复性偏差控制。物理性能方面则介绍了浮力原理在密度测量中的应用。

《高纯度钨部件性能评价方法》适用于半导体制造业、微电子器件制造行业、材料科学研究机构以及高纯金属生产厂家等相关领域。特别是对需要对高纯度钨材料中金属杂质进行精准检测的科研单位、生产企业以及质量监督机构，本标准提供了科学的评价流程和技术支持。其检测方法适用于从事高纯金属材料开发、质量分析、生产控制及设备运维的相关技术人员，也有助于规范相关产品的技术要求与检测流程，提高产品质量与工艺控制水平。